於試料表面以微小探針掃描，探針與試料間相互作用的物理量(穿隧電流、原子間力、摩擦力、磁力力等)檢測，對於微小領域的表面形狀檢測及物性分析等行為的總稱。

場發射掃描式電子顯微鏡除了跟傳統掃描式電子顯微鏡相同地可觀察物體之微結構外，它由於高電場所發射之電子束徑小，亮度高，具有傳統掃描式電子顯微鏡所明顯不及之高解析度，其解析度可高達 1.0 nm(15 kV)、2.2 nm(1 kV) ，另可在低電壓(可低至 0.5 kV )下操作，具直接觀察非導體之功能。

穿隧式掃描電子顯微鏡主要基於隧式電流(tunneling current)運作，隧式電流的產生乃起自於利用一架設在壓電管上(piezoelectric tube)的針頭，將其施與電壓，並使針頭保持與固體表面1奈米(nanometer為十億分之一米)的距離作微小的移動，並且以顯微鏡電子系統控制針頭位置，以一定的移動速率進行掃描。在理想情況下，能顯現出固體表面原子。

  先進X-Ray樣品結構與成分分析系統

  (Advance X-Ray system for analysis of structure and composition )

Ｘ光繞射儀可以鑑定各種物質(藥物、材料、礦物等)在結晶樣品中的形狀，結構，晶面的距離及其他相關的結構參數，是化學、材料、醫藥等各方面均需使用之儀器。

本套Ｘ光繞射儀的主要功能有:

1.    結構鑑定

2.    薄膜厚度量測( < 1μm) )

3.    材料晶粒粒徑大小測量

4.    Rocking curve

5.    表面粗糙度分析

6.    In-plane 量測功能